포커스 도즈 매트릭스. 웨이퍼 한 장에 초점과 노광량을 바꿔 찍어 보스통 곡선을 그리고 초점 심도(DOF)와 노광 여유도를 찾는 법을 설명합니다.

하드마스크와 반사방지막. 노광 시 하부 반사광이 만드는 정재파를 없애는 BARC와 얇은 감광액의 식각 선택비를 보완하는 다층 구조를 정리합니다.

패턴 붕괴. 현상 후 세정액이 마를 때 표면장력과 모세관 힘 때문에 고종횡비 감광액 패턴이 서로 달라붙어 쓰러지는 원리와 해법을 정리합니다.

화학증폭형 레지스트. 광산발생제(PAG)가 만든 산이 노광 후 베이크(PEB)에서 연쇄 탈보호 반응을 일으키는 원리와 한계를 정리합니다.

위상 반전 마스크. 빛의 위상을 180도 뒤집어 상쇄 간섭을 만드는 PSM과 사입사 조명(OAI)으로 해상도를 높이는 원리를 정리합니다.