OPC와 컴퓨테이셔널 리소그래피, 마스크를 일그러뜨리는 이유
OPC와 컴퓨테이셔널 리소그래피가 필요한 이유를 회절에서 풀고, 규칙 기반과 모델 기반 보정, SRAF, SMO, ILT까지 단계별로 정리합니다.
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포토마스크와 펠리클, 회로 원판과 먼지 덮개의 역할
포토마스크와 펠리클의 역할을 정리합니다. 블랭크마스크 구조, 전자빔 묘화와 OPC, 펠리클이 결함을 막는 원리와 EUV 펠리클의 과제까지 살펴봅니다.
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