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스트레인드 실리콘, 전자와 정공 이동도를 높이는 원리
2026년 10월 22일
스트레인드 실리콘이 에너지 띠와 유효 질량을 바꿔 전자와 정공의 이동도를 높이는 원리와, 인장과 압축 응력을 주는 공정 방식을 정리합니다.
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전자와 정공의 이동도, 차이가 소자 설계에 미치는 영향
2026년 10월 22일
전자와 정공의 이동도가 3배 가까이 차이 나는 이유와, 그 차이가 PMOS 폭, 논리 구성, 변형 실리콘 같은 설계에 미치는 영향을 정리합니다.
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